KR Thin Films & Surface Modification (TFSM)

Agenda Riset: Kedaulatan Energi

Sektor: Energi

Deskripsi

Invensi ini mengenai suatu vacuum chamber untuk deposisi lapisan tipis (thin film) menggunakan teknik RF-Sputtering pada frekuensi 13,56 MHz, yang secara khusus mengatasi keterbatasan teknik DC Sputtering dalam memproduksi lapisan tipis nonkonduktor. Vacuum chamber terdiri atas: (1) bejana vakum berbahan stainless steel (SS)(1), (2) pompa vakum rotary (2) dan pompa vakum turbo (3) yang bekerja berurutan hingga mencapai tekanan 10⁻⁶ Torr, (3) RF-Generator pada frekuensi 13.56 MHz (6) dengan rangkaian elektronik impedance matching (7), dan elektroda negatif (katoda) (4) bertegangan hingga -2000 V untuk menghasilkan plasma (15). Keunggulan invensi ini adalah kemampuannya menghasilkan lapisan tipis (thin film) berstruktur nano (1–100 nm) dengan kemurnian tinggi, konstruksi yang lebih sederhana, dan biaya produksi yang rendah. Aplikasi mencakup bidang energi (misalnya sel surya lapisan tipis) dan medis (material antimikroba).

Kata Kunci

Energi Nano Nirkabel Sensor Vakum Trafo Sputtering Thinfilm

Konstruksi sederhana dengan biaya produksi rendah,
mendukung aplikasi di bidang energi (sel surya lapisan tipis) dan medis (material antimikroba).
Menghasilkan lapisan tipis berstruktur nano (1–100 nm) dengan kemurnian tinggi menggunakan teknik RF-Sputtering
Mengatasi keterbatasan DC Sputtering dalam memproduksi lapisan tipis nonkonduktor
Dilengkapi pompa vakum rotary dan turbo yang mampu mencapai tekanan hingga 10⁻⁶ Torr
RF-Generator 13,56 MHz dengan sistem impedance matching memastikan plasma stabil dan efisien